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气相色谱出现“N“ 或 “W”峰及舌头峰的原因

更新更新时间:2021-11-17

浏览次数:3880

  一、"N" 或 “W”峰出现的原因
 
  1、TCD操作,用N2作载气由于热传导率非线性引起;
 
  2、FID操作时,样品溶剂电离效率低(如CS2),或气流比欠佳时;
 
  3、ECD操作时,由于检测器被污染,溶剂峰或待测组分含量较高,或脉冲电源有毛病。
 
  二、舌头峰(前延峰)出现的原因
 
  1、汽化温度偏低;
 
  2、载气流量小:
 
  3、进样量大,汽化时间长;
 
  4、汽化室被污染,样品有吸附效应;
 
  5、样品在柱头有冷凝或色谱柱被污染;
 
  6、进样技术差(挥发性组分的进样速度太慢);
 
  7、峰前出现了“鬼”峰。

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